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      디자인 신청서에는 사진, 렌더링 또는 라인 드로잉을 포함하여 디자인을 명확하고 정확하며 완벽하게 표현해야 합니다(예: 사진, 렌더링 또는 라인 드로잉). 그렇지 않은 경우 해당 신청은 거부됩니다.

      이 문서에서는 CNIPA에 제출하는 도면에 대한 모든 요구 사항에 대해 설명합니다.

      중국 특허의 디자인 도면에는 사진, 렌더링 또는 라인 드로잉이 포함됩니다.
      왼쪽은 렌더링, 아래는 선 그리기, 오른쪽은 사진입니다.

      필수 보기

      직교 뷰

      이는 필수적이며 일반적으로 6가지 주요 보기를 포함합니다:

      • 전면
      • 후면
      • 왼쪽
      • 오른쪽
      • Top
      • 하단
      투시도면과 직교 도면의 차이점.
      도면이 직교가 아닌 원근법인지 확인하세요.

      투시도(스테레오 뷰)

      투시도는 3D 디자인의 외관을 보여주는 데 도움이 될 수 있으므로 필요합니다. 양면이 평평하지 않은 경우 두 개의 스테레오 뷰(예: 상단 및 하단 투시도)를 사용하는 것이 좋습니다.

      6개의 원근법과 2개의 투시도가 포함된 디자인 특허입니다. (CN309011041S)

      참조 도면(선택 사항)

      또한 출원인은 특허의 범위를 좁히지 않는 사용 상태를 참고자료로 제출하여 디자인을 사용한 제품의 용도를 설명할 수 있습니다.

      마지막 그림은 장치 사용 방법을 보여줍니다. (CN309014965S)

      기타 필수 도면(선택 사항)

      신청자는 디자인의 세부 사항을 명확하게 설명하기 위해 디자인 제품의 확대도, 단면도, 단면도, 확대도 및 변형도도 제출해야 합니다.

      세부 사항을 설명하기 위해 확대된 이미지입니다.
      오른쪽은 왼쪽 이미지의 A 부분을 확대한 이미지입니다. (CN309008174S)
      다양한 날카로움을 설명하기 위해 상태를 변경합니다.
      여러 변형 뷰가 다양한 변화 상태를 보여줍니다. (CN306758403S)

      도면 요구 사항

      선명도

      해상도는 충분히 높아야 하며(600dpi가 완벽합니다), 도형과 디테일을 선명하게 볼 수 있어야 합니다.

      도면이 불분명하여 거부됩니다.
      그림이 불분명하고 모호합니다.

      일관성

      모든 도면에서 배율과 각도가 일관되게 유지되는지 확인합니다.

      도면에는 서로 다른 엔젤의 일관성이 있어야 합니다.
      다른 각도의 보기가 일관되지 않습니다.

      일반 배경

      디자인이 선명하게 돋보이도록 관련 없는 항목이 없는 일반 배경(예: 흰색 또는 단색)을 사용하는 것이 좋습니다. 또한 관련 없는 항목(예: 반사, 그림자, 브랜드)은 피하거나 제거해야 합니다.

      배경은 평범해야 합니다.
      배경에 관련 없는 항목이 있습니다.
      리플렉션을 제거해야 합니다.
      병에 관련 없는 항목(반사)이 있습니다.

      실선과 파선만 사용

      실선은 보호를 요청하는 디자인 부분을 나타내며, 파선(점선)은 설명 목적으로 표시되었지만 디자인에 포함되지 않은 기능을 나타내는 데 사용됩니다.

      면책 조항에는 파선을 사용합니다.
      파선은 면책 조항을 위한 것입니다. (CN308696825S)

      또한 미국과 달리 표면 음영(음영선)은 허용되지 않습니다.

      중국에서는 음영 처리된 선이 허용되지 않습니다.
      음영 처리된 선은 제거해야 합니다.

      색상

      색상이 디자인의 필수 요소인 경우 흑백 도면은 컬러 도면으로 대체해야 합니다.

      또한 부인하는 섹션에 다른 색상을 지정할 수도 있습니다.

      면책 조항에는 다른 색상을 사용합니다.
      밑창이 보이는 녹색 부분은 청구된 디자인의 일부가 아닙니다. (CN308973442S)

      추가 정보

      CNIPA의 공식 가이드라인은 여기에서 확인하세요.

      중국에서의 디자인 신청 절차에 대해 자세히 알아보세요.


      중국에서 디자인 특허를 성공적으로 출원하려면 이러한 가이드라인을 준수하는 것이 중요합니다. 도면 검토 및 중국에서의 디자인 보호를 위해 도움이 필요한 경우 다음 주소(contact@gbaiplawyer.com)로 문의해 주세요.

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